托普斯科技

影像检测

fei

显微镜检测系统
Imaging&Analysis Microsystems

pro3-1

名称:体式显微镜
型号:S8 APO
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类行业产品检测

pro3-2

名称:金相微镜
型号:DM 4000M
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类材料行业检测

pro3-3

名称:超景深三维数字显微
型号:DVM5000 HD
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类行业产品外观检测

pro3-4

名称:激光共聚焦显微镜
型号:DCM8
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类行业产品检测


fei

微电子处理系统

pro3-5

名称:低真空镀膜仪 喷金仪/喷碳仪/蒸镀仪
型号:EM ACE200
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类材料行业制备样品

pro3-6

名称:离子束研磨抛光/离子束减簿
型号:EM RES102
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类材料行业制备样品

pro3-7
pro3-7-1

名称:精研一体机(LM, SEM, TEM样品制备)
型号:EM TXP
原产地:德国-徕卡
行业:适用于各类材料行业制备样品


电子扫描显微镜系统
能谱系统

pro3-8

名称:台式-扫描电子显微镜
型号:SEM – Phenom
原产地:荷兰-原飞利浦
行业:适用于各类行业产品检测

pro3-9

名称:钨灯丝/场发射/高强度聚焦离子束电镜
型号:SEM/FIB – SB/LM/XM
原产地:捷克
行业:适用于各类行业产品检测

pro3-10

名称:能谱-电制冷
型号:OXFORD-可选
原产地:英国-牛津
行业:适用于各类行业产品检测

pro3-11

名称 : 镀金/镀碳离子溅射仪
型号 : Cressington 108-可选
原产地 : 英国
行业:适用于各类行业样品制备

简介

? 格林诺夫立体光学显微镜, Leica S8 APO 具有8:1 的连续变倍能力以及长达75毫米的工作距离,可以轻易地完成放大倍数高达80倍的工作,比如质量控制,细胞分类和显微注射等应用。?
? 人机工程学 38° 视角提供了舒适,高效,精准的反射光或透射光观察条件,降低了因工作疲劳引起的误观察可能性。可调节的变倍器设定功能方便了那些需要快捷重复测量的观察工作。
? 一体式图像输出口很方便直接连接数码摄像头。
? 快速,精确观察
? 复消色差 8:1 的连续变倍功能产生10x-80x的总放大倍数 – 允许在一台仪器上实现快速,精准的75毫米工作距离下的80倍观察,节省了额外设备的经费。
? 75 毫米工作距离– 提供便捷的80倍放大下观察样品,如PCB板的观察和修复。
? 38° 视角目镜筒 – 观察更舒服,更方便。
? 环形荧光灯– 提供柔性照明,降低眼疲劳,防止高反光表面的反光,例如焊点。


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简介

? 可接显微硬度仪, 绘图仪, 宏观仪
? 可接微分干涉台阶仪进行高精度测量
? 可接大尺寸物台用于半导体检测
? 可接CCD或照相系统
? 与多种显微图像分析软件共用
? 可升级为其他观察方法
? 徕卡DM4000M半自动数字显微镜系列为用户提供了很多前所未有的解决方案,其中最凸出的一点就是帮助用户简化显微镜的操作,使显微镜使用简单,准确,得心应手.智能化的设计帮助您以简单的操作完成复杂的调节程序,实现多种多样的研究及诊断.
? 快速,精确观察
? 复消色差 8:1 的连续变倍功能产生10x-80x的总放大倍数 – 允许在一台仪器上实现快速,精准的75毫米工作距离下的80倍观察,节省了额外设备的经费。
? 75 毫米工作距离– 提供便捷的80倍放大下观察样品,如PCB板的观察和修复。
? 38° 视角目镜筒 – 观察更舒服,更方便。
? 环形荧光灯– 提供柔性照明,降低眼疲劳,防止高反光表面的反光,例如焊点。

技术参数:

目镜/放大倍数:10X,25mm视场直径 ? ?1.25X--1000X(可根据需要拓展范围)
物镜位数: 6位M32 物镜转盘.带数据终端
手动调焦:具有粗中细二档调焦步进精度,细调焦精度1um
手动载物台:4″X4″和8″X4″
液晶显示屏:3.7X7.7 液晶显示屏显示显微镜当前状态
光源:12V 100W 卤素光源
全自动透射光反射光光强管理
全自动视场光栏和孔径光栏


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简介

徕卡DVM5000 HD 是可以快捷获取二维和三维图像的数码显微镜。完整的全套软件确保用户可以非常简单地对二维,三维图像取图,分析并记录。主机非常紧凑可手提,配置一块 21.5”全高清液晶显示屏,可以表现高反衬数码摄像图像. DVM5000 HD数码显微镜的全套的控制硬件都与主机一体,包括马达对焦和强力LED灯源。DVM5000 HD 数码显微镜可以连接徕卡全系列的 VZ 变倍镜头,包括最强大的 VZ700 C,该物镜的连续放大范围从 35x到 2500x。

特点:
? 高性能LED 照明?
? 一体式的 LED 照明提供高达 5700K色温高密度光源,无需预热就完美表达自然日光的真实色彩。 LED照明器的工作寿命可以长达 30’000 小时,因此使用徕卡的三维数码显微镜是非常可靠和日常低成本的
? 精确的 3D 图像
? 针对大样品在高倍率放大下可以进行精确的定量分析。无缝拼接的三维图像可以达到 10’000 x 10’000 像素的清晰度。一体式的控制器配合徕卡精准的对焦系统,确保了通过 各种所选择的变倍物镜而获取三维图像。
? 友好用户界面预览确保图像理想化
? 采用预览功能可以让使用者很节省时间地在不同情形下选择所需要的理想图像. 预览也配合HDR (高动态范围)模式, 防晕光(亮点柔化) 模式,以及三维表面补偿功能。
? 21.5“ 全高清大显示屏
? 在大高清显示屏中可以将数码显微镜获取地细节看得更清楚。大屏幕可以无需通过控制按键就能通览二维或三维图像。
? 1920×1080高动态解析度彩色实时画面
? 多种镜头可选:0-50x,20-160,50-400,35-7000
? 360度连续旋转观察
? 编码技术,自动识别图像所有获取条件
? 高清晰图片记录及电影录制
? 2D自动测量、精准的3D模型建立
? 实时二维、三维图像活动拼接功能,3D精准剖面测量
? BGA观察功能
? 电动精密调焦
? 电脑软件一体化设计
? LED照明,使用寿命可达30000小时


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简介

Leica DCM8采用了最新的非接触式三维光学表面测量技术。设计用于提高您的工作效率,它是一款融合了高清晰度共聚焦显微镜和干涉测量技术优点的多功能双核系统。一键模式选择,精密软件、无移动部件的高分辨率共聚焦扫描技术确保用户实现超快速的分析操作。
可通过各种规格的徕卡物镜、电动载物台和镜筒来对系统进行配置,以便完全适用于您的样本。为满足客户的文档创建需求,徕卡DCM8包括1个高清CCD摄像头和4个LED光源(RGB和白色)能够提供鲜明的真彩成像效果

具有最佳的精确度和可重复性

您所查看的产品表面是否具有比较陡峭的坡度还是具有复杂的形貌?使用高清共聚焦显微镜能够实现2纳米的垂直分辨率。您所查看的产品平面是否非常平整但具有非常微小的尖峰和凹坑?可从以下三种干涉测量模式中选择:垂直扫描干涉测量(VSI);相移干涉测量(PSI)或者适用于分辨率高达0.1纳米的扩展相移干涉测量(ePSI)。如果您需要快速绚丽的高清二维图像,则Leica DCM8可提供明视场模式和暗视场模式。

快速捕捉表面数据

Leica DCM8采用创新性高清微显示扫描技术。由于传感器头部未使用运动部件,因此设备能够实现快速和可重现的捕捉数据。集成式高清CCD摄像头具有较大的视场,能够观察较大的样本面积。对于具有较大面积区域的样本来说,为获得无缝和精确的模型,只需要选择超快XY地形拼接模式即可。

能够有效地对结构进行分析

我们的用户友好型LeicaSCAN软件能够控制Leica DCM8设备。配方方案,多样本和统计分析能够优化工作流程。您是否还需要执行更为复杂的三维测量任务?那就选择我们的徕卡Map软件,以及全套高级分析工具。当然,如果您只需要二维图像,则徕卡应用程序套件(LAS)将会进一步扩展系统的测量功能。

很容易匹配您的样本

能够对Leica DCM8进行配置以便适用于您的样本,从反光性表面,到透明层下的表面,再到需要较大工作距离的样本-我们都能够提供满足您需求的高品质物镜。对于大尺寸样本来说,从我们的可调整镜筒和电动载物台系列中进行选择。除此之外系统还采用了四种不同颜色的LED灯,能够使您选择适用于具体材料观察的波长。

获取高质量的图像

通过将卓越性能的光学元件与高清CCD摄像头、红色、绿色、蓝色和白色LED光源相结合,Leica DCM8能够提供具有逼真的高清彩色图像。再加上LED的连续性,能够确保每个像素都能够记录真彩信息。分辨率和对比度提高的结果就是能够为您的样本提供水晶版清晰透彻的图像。
目前和将来都够获取非常可靠的结果
高清微显示扫描技术未配置任何运动部件,CCD摄像头和4个LED灯均布置在兼顾紧凑的传感器头中。这种创新性设计能够实现快速、可复制且无噪声的图像结果。值得一提的是,设备还具有较高的耐久性,实际上在较长的使用寿命期限内设备几乎不需要任何维护操作。


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简介

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。
配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。

各个选项,如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。

完美重现的结果

运行自动化的进程,并协助参数设置。

小巧紧凑

设计紧凑,占地面积小节省了实验室空间。

容易清洗

具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。

操作简便

直观的触摸屏和一键式操作。


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简介

徕卡 EM RES102,使您的样品具备最高水平的灵活性,具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺,徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。


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简介

徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能,是用锯,磨,铣削,抛光样品后,供扫描电镜,透射电镜,和LM技术检测。
带有一体化体视镜,用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察;使用样品旋转手柄,可以改变样品观察角度,0°-60°可调,或者垂直于样品前表面90°观察,可利用目镜刻度标尺测量距离。

一体化自动程序控制

一体化自动程序控制,包括自动左右制动机制,前进反馈力控制,倒计数功能等,为使用者节约大量时间。

表面光洁度和标靶检测

表面处理与目标检测,都通过一体化体视镜来完成,用户不需要专程将样品拿出来再进行表面观察检测,这可大大提高使用者的工作效率。

适配工具多样性

可适配多种多样工具,从而使样品不经转移就可以进行研磨,切割,钻孔,打磨及抛光。并且整个处理过程都可通过体视镜进行观察监控,大大节省时间和费用。


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简介

放大倍数100,000倍,分辨率优于17nm,30秒快速得到表面细节丰富的优质显微像。是一款功能齐全的高分辨率台式扫描电镜,可用于测量亚微米或纳米尺寸的样品。可选配丰富的拓展功能选件,如三维粗糙度重建、纤维直径和孔洞面积(孔隙率)统计分布、高倍拼图、远程控制操作等。


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